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中國知名金相制樣設(shè)備耗材廠商

——以材料顯微組織分析技術(shù)進(jìn)步為己任,以金相試樣制備輕松高效真實(shí)為目標(biāo)
TEL:400-886-9530
金剛石拋光劑 金相鑲嵌料 拋光織物 金相專用砂紙 金剛石研磨膏

研磨拋光常識

2016-05-25 14:45:00

機(jī)械制備

對于微觀檢驗(yàn)來說,機(jī)械制備是材料微觀結(jié)構(gòu)分析試樣的最常用的制備方法,它采用粒徑連續(xù)變細(xì)的磨料將材料從試樣表面去除,直到獲得要求的制備結(jié)果。

如金相分析制備原理所述,試樣既可制備至完美表面和真實(shí)結(jié)構(gòu),也可在試樣表面滿足特定檢驗(yàn)?zāi)康臅r停止制備。

分析或檢驗(yàn)的類型決定了制備表面的具體要求。 不管我們的目標(biāo)是什么,制備作業(yè)必須以一種系統(tǒng)、可再現(xiàn)的方式進(jìn)行,以最低成本保證最佳制備結(jié)果。

金相拋光機(jī)

過程定義

機(jī)械制備可分為兩個操作過程: 研磨與拋光。 

三靈科技開發(fā)的機(jī)械制備系列設(shè)備在業(yè)內(nèi)首屈一指。我們可提供大量研磨和拋光設(shè)備,滿足用戶在制備能力、制備質(zhì)量及再現(xiàn)性等方面的各種需求。

經(jīng)驗(yàn)證明,自動化是實(shí)現(xiàn)制備再現(xiàn)性和高質(zhì)量制備的先決條件。另外,自動化還可控制易耗品消耗量,幫助您節(jié)省 大量財(cái)力。三靈科技機(jī)械制備設(shè)備與易耗品的組合,是以平均每個試樣的最低成本獲得最優(yōu)質(zhì)制備結(jié)果的最佳保障。

研磨

機(jī)械式材料去除的第一步被稱為研磨。適當(dāng)研磨可去除受損或變形的表面材料,并將新變形的數(shù)量控制在有限范圍內(nèi)。研磨的目的是:獲得平整的表面,將損傷降到最低程度,并可在拋光過程中以最短的時間輕松去除這些損傷。研磨可劃分為兩個獨(dú)立的過程。

1. 粗磨

2. 精磨

三靈新型研磨盤將碳化硅研磨紙的典型研磨過程減少到兩個步驟,從而縮短了總制備時間,且制備質(zhì)量相比碳化硅研磨紙得到了大幅提升。因此,三靈新型研磨盤在價格和性能上均優(yōu)于碳化硅研磨紙。

第一步研磨通常被稱為粗磨(PG)。

粗磨可保證所有試樣均獲得類似的表面,不管其初始狀況及前期處理如何。另外,當(dāng)試樣座中有若干個試樣需要處理時,它們必須處于同一水準(zhǔn)或“平面”,以利于試樣的進(jìn)一步制備。

第 一步研磨采用了是一款金剛石磨盤(金相砂紙),專為 150 至2000 HV 硬度范圍內(nèi)材料的粗磨而設(shè)計(jì)開發(fā)。先采用金剛石磨盤作,可在短時間內(nèi)始終獲得較高的材料去除量。 這些研磨盤對硬質(zhì)和軟質(zhì)材料或位相均具有等效切削作用。因此,使用這些研磨盤可制備出絕對平整的試樣,不同位相間不會產(chǎn)生任何浮凸缺陷。樹脂與試樣交接面 的邊角修圓缺陷也得到了徹底消除。

精磨而成的試樣表面僅有少量變形,可在拋光過程中消除。 

精磨通常分多個步驟在粒度連續(xù)減小的碳化硅金相砂紙上完成。使用的金剛石晶粒度為15至6微米; 隨后以6微米或3微米的晶粒度精磨,即可獲得完美表面。

精磨盤上涂敷了金剛石磨料,硬質(zhì)相和軟質(zhì)相材料均可獲得始終如一的材料去除率。 軟質(zhì)相材料不會產(chǎn)生污斑,脆質(zhì)相材料不會產(chǎn)生碎屑,試樣可保持完美的平面度。 后續(xù)拋光步驟可在最短時間內(nèi)完成。

拋光

與研磨一樣,拋光必須消除先前步驟中產(chǎn)生的損傷。 分步拋光、連續(xù)減小磨料粒度可實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。 拋光可分為兩個不同的過程。

1. 金剛石拋光

2. 氧化物拋光

用金剛石作為拋光磨料,可以最快速度去除材料并獲得最佳平面度。 現(xiàn)有的其他材料均不可能獲得類似結(jié)果。 金剛石的高硬度幫助您輕松切穿所有材料和位相。

某些材料,尤其是軟質(zhì)和韌性材料,需 要通過終拋光來獲得最佳制備質(zhì)量。此時可采用氧化物拋光法。膠態(tài)氧化硅的晶粒度約為0.3um,pH 值約為 9.8,可為您呈現(xiàn)優(yōu)異的制備結(jié)果。 化學(xué)活性輔以精細(xì)、溫和研磨,可制成絕無劃痕和變形的試樣。納米氧化鋁粉配置的拋光懸浮液,在各類材料上均可獲得完美的拋光結(jié)果。可配合各種試劑使用,試劑會增強(qiáng)化學(xué)反應(yīng),使勝任高韌性材料的制備。酸性氧化鋁懸浮液,適用于低合金鋼、高合金鋼、鎳基合金及陶瓷材料的終拋光。

易耗品

拋光過程在拋光布上完成 。金剛石拋光時必須使用潤滑劑。 拋光布、金剛石晶粒度及潤滑劑的選擇取決于需要拋光的材料類型。最初的拋光步驟通常在低彈力拋光布上完成,軟質(zhì)材料需使用低粘度潤滑劑。終拋光時,需采用 彈力較高的拋光布和粘度較高的潤滑劑。

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